سامسونگ به‌تازگی ازطریق اطلاعیه‌ای اعلام کرده است که توانسته پروسه‌ی توسعه‌ی لیتوگرافی ۵ نانومتری را با استفاده از فناوری EUV (لیتوگرافی به‌وسیله‌ی اشعه‌ی ماورای بنفش) به‌اتمام برساند. لیتوگرافی ۵ نانومتری جدید سامسونگ در مقایسه با لیتوگرافی ۷ نانومتری EUV، باعث می‌شود تراشه‌ها ۲۵ درصد کوچک‌تر باشند و از لحاظ مصرف انرژی تا ۲۰ درصد بهنیه‌تر شوند.
اوایل امسال بود که سامسونگ از آغاز تولید انبوه تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری‌اش خبر داد. این شرکت از مدت‌ها پیش، تحویل نمونه‌های تجاری این لیتوگرافی را به مشتریان آغاز کرده است. سامسونگ امیدوار است بتواند تا سال ۲۰۲۰ میلادی، تولید نسخه‌های تجاری تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی جدید ۵ نانومتری‌اش را آغاز کند. کره‌ای‌ها همچنین از توسعه‌ی لیتوگرافی ۶ نانومتری خبر داده‌اند؛ تولید انبوه این لیتوگرافی، تا آخر سال جاری میلادی آغاز خواهد شد.
سامسونگ در حال حاضر لیتوگرافی مبتنی بر روش EUV خود را کشور کره تولید می‌کند. این شرکت گفته است که قصد دارد تعداد خطوط تولید خودش را در سال آینده‌ی میلادی افزایش دهد.
ورود به سایت